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水處理技術(shù)

觸摸屏行業(yè)為什么要用到高純水設(shè)備?

更新日期:2015年12月2日 大字 小字
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  針對目前平板顯示行業(yè)觸模屏技術(shù)迅速升級換代的趨勢,尤其在電容屏技術(shù)及應(yīng)用領(lǐng)域越來越廣泛的背景下,觸摸屏手機也空前的熱銷,在觸摸屏的清洗對水質(zhì)的要求非常高,超純水設(shè)備也因此得以在觸摸屏行業(yè)被大量的使用。本文將簡單的介紹觸摸屏清洗用超純水設(shè)備。
 
  觸摸屏清洗用超純水出水水質(zhì)完全符合美國ASTM純水水質(zhì)標準、我國電子工業(yè)部電子級水質(zhì)技術(shù)標準(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準)、我國電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標準、美國半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標、日本集成電路水質(zhì)標準、國內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標準
 
  觸摸屏行業(yè)為什么要用到超純水設(shè)備?選擇觸摸屏清洗用超純水設(shè)備的必要性。
超純水在電子工業(yè)主要是觸摸屏,線路板、電子元器件生產(chǎn)中的重要作用日益突出,超純水水質(zhì)已成為影響觸摸屏,線路板、電子元器件產(chǎn)品質(zhì)量、生產(chǎn)成品率及生產(chǎn)成本的重要因素之一,水質(zhì)要求也越來越高。在觸摸屏電子元器件生產(chǎn)中,超純水主要用作清洗用水及用來配制各種溶液、漿料,不同的觸摸屏幕電子元器件生產(chǎn)中純水的用途及對水質(zhì)的要求也不同。   
 
  觸摸屏生產(chǎn)過程中的80%的工序需要使用高純水清洗產(chǎn)品,水質(zhì)的好壞與觸摸屏的產(chǎn)品質(zhì)量及生產(chǎn)成品率關(guān)系很大。水中的堿金屬(K、Na等)會使絕緣膜耐壓不良,重金屬(Au、Ag、Cu等)會使PN結(jié)耐壓降低,Ⅲ族元素(B、Al、Ga等)會使N型半導(dǎo)體特性惡化,Ⅴ族元素(P、As、Sb等)會使P型觸摸屏特性惡化[2],水中細菌高溫碳化后的磷(約占灰分的20-50%)會使觸摸屏上的局部區(qū)域變?yōu)镹型硅而導(dǎo)致器件性能變壞[3],水中的顆粒(包括細菌)如吸附在觸摸屏表面,就會引起產(chǎn)品特性變差。
 
  超純水中雜質(zhì)的污染源 
   

  1.水源的影響      
  由于水是一種溶解能力很強的溶劑,因此天然水中含有各種鹽類和化合物,溶有CO2, 還有膠體(包括硅膠和腐殖質(zhì)膠體),天然水中還存在大量的非溶解性質(zhì),包括粘土、砂石、細菌、微生物、藻類、浮游生物、熱源等。     
 
  2.材料的影響    
  制備超純水的材料設(shè)備的材質(zhì)都是用金屬和塑料制成的,金屬在水中會有痕量溶解,造成金屬離子污染。一些高分子材料,在合成時常常加入各種添加劑、增塑劑、紫外吸光劑、著色劑,也引入大量的金屬、非金屬雜質(zhì),同時還會帶來有機污染。      
 
  晨興環(huán)保專業(yè)從事工業(yè)超純水設(shè)備系統(tǒng)的開發(fā)、制造、銷售和服務(wù)于一體的高科技企業(yè)。晨興環(huán)保以引進和推廣國內(nèi)外先進水處理設(shè)備為己任我們開發(fā)制造的RO純水系統(tǒng)和EDI超純水系統(tǒng)可廣泛應(yīng)用于光伏光電、液晶顯示、偏光片、ITO導(dǎo)電膜、電子電器、半導(dǎo)體、線路板、食品飲料、醫(yī)學(xué)化工、電廠、生活飲水、化妝品等行業(yè)。
 
  晨興環(huán)保生產(chǎn)的觸摸屏產(chǎn)品清洗超純水設(shè)備在設(shè)備設(shè)計上,采用成熟、可靠、先進、自動化程度高的兩級RO+EDI+精混床除鹽水處理工藝,確保處理后的超純水水質(zhì)出水電阻率達到18.2 MΩ.cm。關(guān)鍵設(shè)備及材料均采用國際主流先進可靠產(chǎn)品,采用PLC+觸摸屏控制,全套系統(tǒng)自動化程度高,系統(tǒng)穩(wěn)定性高。大大節(jié)省人力成本和維護成本,水利用率高,運行可靠,經(jīng)濟合理。使設(shè)備與其它同類產(chǎn)品相比較,具有更高的性價比和設(shè)備可靠性。
 
  典型觸摸屏清洗純水設(shè)備制備工藝:

  1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗床→精混床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象 (≥18MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)
  2、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI超純水設(shè)備→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)(最新工藝)
  3、預(yù)處理→一級反滲透→加藥機(PH調(diào)節(jié))→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI超純水設(shè)備→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥17MΩ.CM)(最新工藝)

                                                                                                                                               文章來源:中國環(huán)保在線