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反滲透設(shè)備清洗您知道多少？
反滲透設(shè)備的技術(shù)不斷地發(fā)展進(jìn)步，在設(shè)計(jì)上也越來(lái)越完善，但是清洗在反滲透設(shè)備日常運(yùn)行中不可避免的。
反滲透膜正常運(yùn)行一段時(shí)間后，反滲透膜元件會(huì)受到給水中可能存在的懸浮物或難溶鹽的污染，這些污染中最常見(jiàn)的碳酸鈣沉淀、硫酸鈣沉淀、金屬(如鐵、錳、銅、鎳、鋁等)氧化物沉淀、硅沉積物、無(wú)機(jī)或有機(jī)沉積混合物、天然有機(jī)物質(zhì)、合成有機(jī)物(如：阻垢劑/分散劑，陽(yáng)離子聚合電解質(zhì))、微生物藻類、霉菌、真菌等污染。污染性質(zhì)和污染速度取決于各種因素，如給水水質(zhì)和系統(tǒng)回收率。通常污染是漸進(jìn)發(fā)展的,如不盡早控制，污染將會(huì)在相對(duì)較短的時(shí)間內(nèi)損壞膜元件。當(dāng)膜元件確證已被污染，或是臨時(shí)停機(jī)之前，或是作為定期日常維護(hù)，建議對(duì)膜元件進(jìn)行清洗。當(dāng)反滲透系統(tǒng)（或裝置）出現(xiàn)以下癥狀時(shí)，需要進(jìn)行化學(xué)清洗或物理沖洗：正常給水壓力下，產(chǎn)水量較正常值下降10-15%,為維持正常的產(chǎn)水量，經(jīng)溫度校正后的給水壓力增加10-15%,產(chǎn)水水質(zhì)降低10-15%,透鹽率增加10-15%,給水壓力增加1015%,系統(tǒng)各段之間壓差明顯增加。
已受污染的反滲透膜的清洗周期根據(jù)現(xiàn)場(chǎng)實(shí)際情況而定。正常的清洗周期是每3-12個(gè)月一次。當(dāng)膜元件僅僅是發(fā)生了輕度污染時(shí)，重要的清洗膜元件。重度污染會(huì)因阻礙化學(xué)藥劑深入滲透至污染層，影響清洗效果。
清洗何種污染物以及如何清洗要根據(jù)現(xiàn)場(chǎng)污染情況而進(jìn)行。對(duì)于幾種污染同時(shí)存在復(fù)雜情況，清洗方法是采用低PH和高PH清洗液交替清洗（應(yīng)先低PH后高PH值清洗）
?。?）碳酸鈣垢：碳酸鈣垢是一種礦物結(jié)垢。當(dāng)阻垢劑/分散劑添加系統(tǒng)出現(xiàn)故障時(shí)，或是加酸pH調(diào)節(jié)系統(tǒng)出故障而引起給水pH增高時(shí)，碳酸鈣垢有可能沉積出來(lái)。盡早地檢測(cè)碳酸鈣垢，對(duì)于防止膜層表面沉積的晶體損傷膜元件是極為必要的早期檢測(cè)出的碳酸鈣垢可由降低給水的pH值至3-5運(yùn)行1-2小時(shí)的方法去除。對(duì)于堆積時(shí)間長(zhǎng)的碳酸鈣垢，可用低pH值的檸檬酸溶液清洗去除。
?。?）硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢：硫酸鹽垢是比碳酸鈣垢硬很多的礦物質(zhì)垢，且不易去除。硫酸鹽垢可在阻垢劑/分散劑添加系統(tǒng)出現(xiàn)故障或加硫酸調(diào)節(jié)pH時(shí)沉積出來(lái)。盡早地檢測(cè)硫酸鹽垢對(duì)于防止膜層表面沉積的晶體損傷膜元件是極為必要的硫酸鋇和硫酸鍶垢較難去除，因?yàn)樗鼛缀踉谒械那逑慈芤褐须y以溶解，所以，應(yīng)加以特別的注意以防止此類結(jié)垢的生成。
?。?）金屬氧化物/氫氧化物污染：典型的金屬氧化物和金屬氫氧化物污染為鐵、鋅、錳、銅、鋁等。這種垢的形成導(dǎo)因可能是裝置管路、容器(罐/槽)腐蝕產(chǎn)物，或是空氣中氧化的金屬離子、氯、臭氧、鉀、高錳酸鹽，或是由在預(yù)處置過(guò)濾系統(tǒng)中使用鐵或鋁助凝劑所致。
?。?）聚合硅垢：硅凝膠層垢由溶解性硅的過(guò)飽和態(tài)及聚合物所致，且非常難以去除。需要注意的這種硅的污染不同于硅膠體物的污染。硅膠體物污染可能是由與金屬氫氧化物締合或是與有機(jī)物締合而造成的硅垢的去除很艱難，可采用傳統(tǒng)的化學(xué)清洗方法。現(xiàn)有的化學(xué)清洗藥劑，如氟化氫銨，已在一些項(xiàng)目上得到勝利的使用，但使用時(shí)須考慮此方法的操作危害和對(duì)設(shè)備的損壞，加以防護(hù)措施。
（5）膠體污染：膠體是懸浮在水中的無(wú)機(jī)物或是有機(jī)與無(wú)機(jī)混合物的顆粒，不會(huì)由于自身重力而沉淀。膠體物通常含有以下一個(gè)或多個(gè)主要組份，如：鐵、鋁、硅、硫或有機(jī)物。
?。?）非溶性的天然有機(jī)物污染：非溶性天然有機(jī)物污染通常是由地表水或深井水中的營(yíng)養(yǎng)物的分解而導(dǎo)致的有機(jī)污染的化學(xué)機(jī)理很復(fù)雜，主要的有機(jī)組份或是腐植酸，或是灰黃霉酸。非溶性天然有機(jī)物質(zhì)被吸附到膜表面可造成RO膜元件的快速污染，一旦吸收作用發(fā)生，漸漸地結(jié)成凝膠或塊狀的污染過(guò)程就會(huì)開(kāi)始。
（7）微生物堆積：有機(jī)堆積物是由細(xì)菌粘泥、真菌、霉菌等生成的這種污染物較難去除，尤其是給水通路被完全堵塞的情況下。給水通路堵塞會(huì)使清潔的進(jìn)水難以充分均勻的進(jìn)入膜元件內(nèi)。為抑制這種沉積物的進(jìn)一步生長(zhǎng)，重要的不只要清潔和維護(hù)RO系統(tǒng)，同時(shí)還要清潔預(yù)處理、管道及端頭等。對(duì)膜元件采用氧化性殺菌時(shí)，使用認(rèn)可的殺菌劑。
清除污染物慣例清洗液介紹
溶液1：2.0%W檸檬酸(C6H8O7低pH)pH值為3-4清洗液。以于去除無(wú)機(jī)鹽垢(如碳酸鈣垢、硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢等)金屬氧化物/氫氧化物(鐵、錳、銅、鎳、鋁等)及無(wú)機(jī)膠體十分有效。
溶液2：0.5%W鹽酸低pH清洗液(pH為2.5)主要用于去除無(wú)機(jī)物垢(如碳酸鈣垢、硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢等)金屬氧化物/氫氧化物(鐵、錳、銅、鎳、鋁等)及無(wú)機(jī)膠體。這種清洗液比溶液1要強(qiáng)烈些，因?yàn)辂}酸為強(qiáng)酸。
溶液3：0.1%W氫氧化鈉高pH清洗液(pH為11.5）用于去除聚合硅垢。這一洗液是一種較為強(qiáng)烈的堿性清洗液。
溶液4：氫氧化鈉-EDTA四鈉-六偏磷酸鈉清洗液。
清洗步驟：先用殺菌劑如1227清洗，再用溶液1清洗，再用溶液4清洗，最后用水沖洗至中性，所用水應(yīng)為反滲透產(chǎn)水。
